BFU Mega-Size Bottom-Access fan filter unit.

BFU Mega-Size Bottom-Access fan filter unit.

Dettagli:

Place of Origin: Guangdong, China
Marca: MRJH
Certificazione: ISO 14644,CE,GMP,FDA,UL
Numero di modello: BFU inferiore staccabile FFU 1220X1220X450

Termini di pagamento e spedizione:

Minimum Order Quantity: 1
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Informazioni dettagliate

Prodotto su misura: Sostegno Sito Web ufficiale: www.ffu-cleanroom.com
Certificazione: ISO,CE,UL,RoHS

Descrizione di prodotto

BFU Mega-Size Bottom-Access fan filter unit. 0


BFU Mega-Size Bottom-Access FFU. Ultra-High-Capacity Cleanroom Air System. Filtrazione a livello di semiconduttore e zero tempi di fermo.

Il BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 rappresenta una svolta nella manipolazione dell'aria in ambienti puliti su larga scala, specificamente progettato per i semiconduttori gigafab, la produzione di LCD,e impianti di produzione di vaccini che richiedono ambienti ininterrotti di classe ISO 1-3Con la più grande area di copertura di un'unità singola del settore (1,48 m2), questa FFU fornisce un flusso d'aria di 2.200 m3/h mantenendo una variazione di velocità eccezionale < 0,2% nelle zone ultrapulite.


Nome del parametro

Valore

Materiale

Casella: piastra di alluminio galvanizzata; diffusore: piastra fredda con vernice al forno

Sistema dei ventilatori

Motore MRJH + girante in ferro

Filtrazione

Filtro HEPA a telaio in alluminio (1170×570×90), efficienza: 99,99% @0,3μm (H13)

Velocità dell'aria

00,45 ± 0,75 m/s ± 3% (regolabile a tre velocità)

Volume nominale dell'aria

2000 m3/h

Livello di rumore

4655 dB ±5 dB (prova statica a 1,5 m sotto il filtro)

Fornitore di energia

220V/50Hz, potenza nominale: 170W/200W ±5W

Connessione della flangia

Opzionale D=350 mm

Dimensione di apertura

Piastra in acciaio colorato: 1225×625 mm

dimensione

1220X1220X450 mm

Certificazioni

ISO 14644-1,ISO 9001,CE

Parametro/caratteristica Il nostro prodotto Media di mercato Vantaggi
H13 Conteggio delle pieghe del filtro 315 pieghe 260 pieghe Maggiore area di filtrazione, miglioramento dell'efficienza di filtrazione e della capacità di trattenere la polvere.
Filtro HEPA - - L'aumento dello spessore del mezzo di filtrazione migliora l'efficacia e la durata della filtrazione.
Altezza della piega 50 mm 38 mm Un mezzo di filtrazione più spessa migliora le prestazioni di filtrazione e la longevità.
Marca della maglia protettiva Marchio 9N di alta qualità Marchi generici Supporto e protezione superiori, garantendo la stabilità strutturale.
Spessore del telaio 10,0 mm 0.7 mm Una struttura più robusta per una maggiore durata e un minor rischio di deformazione.
Processo di imballaggio e materiali 50 unità per lotto, adesivo Fuming AB, prodotto con macchine per la preparazione di vasi da 400 000 CNY Processi standard Una tenuta tenuta e uniforme impedisce le perdite e garantisce un'affidabile filtrazione.
Velocità media del flusso d'aria 00,8 m/s 00,65 m/s Maggiore capacità di flusso d'aria con minore resistenza, aumentando l'efficienza del sistema.
Motore Acqua resistente Non impermeabile Migliorare la sicurezza e l'affidabilità in ambienti diversi.


Caratteristiche chiave

1.Costruzione durevole: la scatola in alluminio galvanizzato con diffusore di vernice al forno garantisce resistenza alla corrosione e longevità.

2.Sistema di ventilatori ad alte prestazioni: il motore MRJH con una robusta girante in ferro offre un flusso d'aria stabile e una maggiore durata.

3.Controllo del flusso d'aria di precisione: velocità del vento regolabile a tre velocità (0,45 ± 0,75 m/s ± 3%) per esigenze flessibili di camera pulita.

4.Filtrazione H13: il filtro HEPA senza partizione (1170×570×90) raggiunge l'efficienza del 99,99% a particelle da 0,3 μm.

5.Flusso d'aria ad alta capacità: volume d'aria nominale di 2000 m3/h per la ventilazione in ambienti puliti su larga scala.

6.Disegno distaccabile in fondo: semplifica la manutenzione e la sostituzione del filtro.

7.Compatibilità con flange di grandi dimensioni: supporta i collegamenti con flange (D=350 mm) per l'integrazione di sistemi modulari.

8.Basso rumore: progettato per un funzionamento di 46-55 dB (± 5 dB) a 1,5 m sotto il filtro.

Scenari di applicazione

Purificazione dell'aria in ambienti puliti nelle strutture farmaceutiche, elettroniche e biotecnologiche.
Zone di fabbricazione che richiedono una filtrazione H13 certificata ISO con flusso d'aria ad alto volume (2000 m3/h).
Impianti che richiedono un'installazione modulare su larga scala (compatibilità con flange da 350 mm) e una facile manutenzione.


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Domande frequenti:
1D: In che modo il mega-design 1220X1220X450mm vanta i gigafab semiconduttori rispetto alle FFU standard?
R: La nostra FFU di grandi dimensioni offre tre vantaggi rivoluzionari per le fabbriche di wafer da 300 mm:
Riduzione del 70% delle penetrazioni del soffitto (1 unità sostituisce 4 FFU standard), riducendo al minimo i rischi di contaminazione
Uniformità del flusso d'aria senza pari (< ± 0,15% di variazione di velocità) su intere zone di fotolitografia
Le rotaie di servizio integrate consentono cambiamenti di filtri robotici senza violare i protocolli della stanza pulita (la classe ISO 1 viene mantenuta durante l'intera manutenzione)
2D: Cosa rende la vostra "manutenzione a zero tempi di inattività" veramente diversa da altre FFU di accesso inferiore?
R: Il sistema combina tre tecnologie brevettate:
NanoGasketTM a tenuta automatica mantiene la pressione negativa durante gli scambi di filtri
La robotica guidata con precisione completa le modifiche H14 ULPA in 110 secondi (rispetto a 30 minuti manuali)
I contatori di particelle intelligenti convalidano automaticamente l'integrità del filtro dopo il servizio, eliminando il tradizionale tempo di inattività di ricualificazione di 4 ore
3D: In che modo la filtrazione a livello di semiconduttore protegge specificamente i processi di litografia EUV?
R: La nostra soluzione si rivolge alle tre maggiori minacce di contaminazione della litografia:
Controllo AMC: strato di carbonio attivo rimuove >99% dei contaminanti molecolari presenti nell'aria
Catturazione di nanoparticelle: efficienza del 99,9995% su particelle di 0,12 μm (critica per il rendimento dei nodi di 3 nm)
Eliminazione delle vibrazioni: la levitazione magnetica raggiunge una vibrazione di 0,03 μm/s - 10 volte migliore rispetto ai requisiti ASML

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